
按先簡(jiǎn)單后復(fù)雜、先外部后內(nèi)部的邏輯排查,快速定位波動(dòng)原因,核心圍繞取樣系統(tǒng)、工況環(huán)境、儀器本身、校準(zhǔn)設(shè)置四大維度,步驟清晰可落地:
一、優(yōu)先排查取樣系統(tǒng)(常見(jiàn)波動(dòng)原因,占比超 60%)
檢查取樣管路:是否存在漏氣、堵塞、結(jié)露 / 積水,管路材質(zhì)是否與樣氣兼容(避免吸附氧氣),建議用不銹鋼 / 聚四氟管路,軟管易漏氣需更換;
核實(shí)樣氣流量:流量是否穩(wěn)定在儀器標(biāo)定范圍(一般 0.5-2L/min),流量忽大忽小直接導(dǎo)致讀數(shù)波動(dòng),檢查轉(zhuǎn)子流量計(jì) / 質(zhì)量流量計(jì)是否卡滯、減壓閥是否失效;
排查預(yù)處理裝置:過(guò)濾器是否堵塞、冷凝器是否正常工作(樣氣含濕 / 含塵會(huì)干擾激光檢測(cè)),疏水器是否及時(shí)排水,預(yù)處理后的樣氣需干燥、潔凈、無(wú)油霧。
二、排查現(xiàn)場(chǎng)工況與安裝環(huán)境
環(huán)境干擾:儀器安裝位置是否有劇烈振動(dòng)、強(qiáng)電磁干擾(如變頻器、大功率電機(jī))、溫度驟變(如正對(duì)風(fēng)口 / 熱源),激光檢測(cè)對(duì)振動(dòng)和溫變敏感,需做減震、電磁屏蔽、恒溫處理;
樣氣工況:被測(cè)氣體是否存在壓力驟變、組分劇烈波動(dòng)(如含高濃度粉塵 / 水汽 / 腐蝕性氣體),或樣氣中存在其他吸收譜線與氧氣重疊的氣體(如甲烷),需增加預(yù)處理或確認(rèn)氣體組分兼容性;
安裝角度:原位式分析儀的激光發(fā)射 / 接收端是否對(duì)準(zhǔn),鏡片是否有結(jié)霧、沾污,需定期擦拭鏡片(用無(wú)水乙醇 + 無(wú)塵布)。
三、儀器本體硬件與參數(shù)排查
檢測(cè)單元檢查:激光發(fā)射器、探測(cè)器是否故障,信號(hào)強(qiáng)度是否達(dá)標(biāo)(一般信號(hào)值>2000,過(guò)低需清潔光學(xué)部件或更換配件);
內(nèi)部部件:儀器內(nèi)部氣室是否有污染、積水,氣室密封墊是否老化漏氣,需拆機(jī)清潔并更換密封件;
參數(shù)設(shè)置:核實(shí)儀器平均時(shí)間、濾波系數(shù)是否過(guò)小(過(guò)小會(huì)放大實(shí)時(shí)波動(dòng),建議根據(jù)工況調(diào)大,如平均時(shí)間 5-10s),是否開(kāi)啟了 “實(shí)時(shí)采樣" 模式未做平滑處理。
四、校準(zhǔn)與標(biāo)定排查
零點(diǎn) / 量程漂移:是否長(zhǎng)期未校準(zhǔn),零點(diǎn)氣(高純氮,O?<0.01%)、量程氣(標(biāo)準(zhǔn)氧混合氣)是否過(guò)期,校準(zhǔn)過(guò)程中流量是否穩(wěn)定,重新做兩點(diǎn)校準(zhǔn)驗(yàn)證;
標(biāo)定偏差:校準(zhǔn)操作是否規(guī)范,需確保標(biāo)氣充分吹掃氣室(吹掃時(shí)間≥5min)后再標(biāo)定。
五、特殊情況排查
樣氣中含液態(tài)水 / 油滴:進(jìn)入激光氣室會(huì)造成光的散射 / 吸收,導(dǎo)致讀數(shù)跳變,需在預(yù)處理端增加除水除油裝置(如冷干機(jī)、油水分離器);
儀器固件故障:極少數(shù)情況為固件程序異常,可重啟儀器或聯(lián)系廠家升級(jí)固件;
管路死體積過(guò)大:取樣管路過(guò)長(zhǎng)、彎頭過(guò)多,樣氣置換不及時(shí),工況變化后樣氣不能快速進(jìn)入儀器,需縮短管路、減少?gòu)濐^,增加吹掃流量。
快速排查口訣(現(xiàn)場(chǎng)速用)
先查流量漏不漏,再看環(huán)境振不振;
預(yù)處理端清不潔,光學(xué)鏡片擦一擦;
平均濾波調(diào)一調(diào),最后校準(zhǔn)驗(yàn)一驗(yàn)。
排查后穩(wěn)定措施
定期(1-3 個(gè)月)做零點(diǎn)校準(zhǔn),6 個(gè)月做量程校準(zhǔn);
每周清潔預(yù)處理過(guò)濾器、擦拭光學(xué)鏡片,及時(shí)排水;
根據(jù)工況調(diào)整儀器平均時(shí)間和濾波參數(shù),平衡響應(yīng)速度與數(shù)據(jù)穩(wěn)定性;
取樣系統(tǒng)做保溫伴熱(防止樣氣結(jié)露),遠(yuǎn)離電磁干擾和振動(dòng)源。